低溫等離子體主要特點:任何濕洗法清洗,表面都會有殘留,只有低溫等離子體表面處理才能做到徹底的凈化,得到超高潔凈度的表面,且低溫等離子體只對材料納米級的表面起作用,不會改變材料原有的特性,在對表面潔凈度要求較高的工藝中,正在取代濕法處理工藝而得到廣泛使用。
處理機理:主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。氣體被激發為等離子態;重粒子撞擊固體表面;電子與活性基團與固體表面發生反應解析為新的氣相物質而脫離表面。
等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。
2、等離子體處理的活化作用:
經低溫等離子體處理后使物體表面形成C=O羰基(Carbonyl)、-COOH羧基(Carboxyl) 、?OH羥基(Hydroxyl)三種基團。這些基團具有穩定的親水功能,對粘接、涂覆有積極作用。
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